什麼是工藝節點?

為了描述未來晶元的發展細節，IRTS引入了工藝節點的概念，並將之定義為「在工藝中實現重大進步」，或者說「每節點實現大約0.7倍的縮小」或「每兩個節點實現0.5倍的縮小」。 根據這一定義，下一代的工藝節點可用此前的節點數據推算出來。

半導體製造的工藝節點是什麼?

半導體製造（有文章也稱為「製程」）的工藝節點，可以看作是摩爾定律下的集成電路晶元集成度大小的一個指標。 在讀半導體文章時，我們常常可以看到這樣一組數字：180nm、90nm、65nm、45nm、28nm、14nm、7nm（nm納米，1微米＝1000納米）等。 這些數字就是表示半導體工藝的「技術節點 (technology node)」，也稱作「工藝節點」。 這些節點對半導體製造有哪些意義，是什麼因素形成了這些節點，又是哪些因素推動了這些節點的不斷進步呢？ 我們來做個梳理。 1958年，美國德州儀器公司的工程師傑克•基爾比製成了世界上第一片集成電路，1962年，德州儀器公司建成世界上第一條商業化集成電路生產線。

為什麼7nm工藝節點被看作是一個轉折點?

由於微電子製程技術主要依賴「光刻」技術，而光刻的解析度是有極限的，這也意味著，當工藝節點進一步推進、尺寸進一步縮小時，也不得不思考未來加工工藝的發展方向和具體技術上的實現辦法。 可以說，決定這種工藝節點演進速度快慢的目前主要是「光刻」技術。 為什麼7nm工藝節點被看作是一個轉折點？ 7納米工藝目前被看作是摩爾定律下的半導體工藝一個轉折點。 在全世界眾多半導體製造商里，目前能夠夠到這個高度的廠家真不多。 從現有資料來看，只有Intel、台積電、格羅方德、三星發布了7納米量產計劃。